什么是光刻机 光刻机（Mask Aligner），又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。 其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（stepper）或扫描式光刻机（scanner），获得比模板更小的曝光图样。 生产光刻机上市公司 光刻机概念股一览如下： 1、大族激光(002008) 大族激光(002008)在互动平台表示，公司生产的接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化，公司将根据市场需求及业务发展情况持续制定研发计划。 2、胜利精密(002426) 胜利精密(002426)2018年1月10日晚间披露非公开发行股票预案，发行股票数量不超过发行前公司总股本的20%，即不超过6.88亿股，且募资总额不超过20亿元，发行对象不超过10名。募集资金拟用于智能制造生产研发基地建设项目、光刻机产业化项目及补充流动资金。 3、芯源微(688037) 作为与光刻机配合进行作业的关键处理设备，公司生产的涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断并填补国内空白，其中在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节，作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代；通过多年的技术研发、实践应用积累以及持续承担国家02重大专项，公司成功突破了应用于集成电路制造前道晶圆加工环节的涂胶显影设备技术，成型产品目前正在长江存储、上海华力等前道芯片制造厂商进行工艺验证。 4、赛微电子(300456) 赛微电子(300456)在互动平台表示，截至2022年6月底，由于仍处于新线运行初期的产能爬坡阶段，北京FAB3产能利用率水平较低；产品方面，硅麦克风、电子烟开关已实现量产；BAW滤波器、加速度计、气体、振镜、微流控、压力、微扬声器、硅光子、光刻机透镜部件等MEMS器件分别处于工艺开发、验证、试产等不同阶段，北京FAB3正积极推动相关产品进入量产阶段，但后续具体进展客观上存在不确定性。 5、华亚智能（003043） 华亚智能在互动平台表示，公司具备为光刻机提供精密金属结构件的加工技术能力。光刻机相比其他前端半导体设备，对金属零部件需求占比相对较低。公司除了提供精密部件外，已开展了半导体设备领域的阀门、流量计等部件维修业务、通用领域的设备集成装配等业务。 6、长光华芯(688048) 长光华芯(688048)6月14日在互动平台表示，公司布局的蓝光芯片可应用于激光直写光刻机领域。 7、苏大维格(300331) 苏大维格在互动平台表示，在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。公司长期从事光刻机的研制，光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所，再到销售给相关企业的发展路径。目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入；纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。 |
