2024-09-19 09:37 光刻机概念板块连续两个交易日涨幅居前，光刻机概念继续活跃，截至发稿，凯美特气、海立股份涨停，同飞股份、波长光电、高盟新材、张江高科等涨幅居前。 消息面： 工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知。目录中的“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，能够支持28纳米工艺芯片的量产。这不仅是中国在半导体设备领域的一次重大飞跃，也表明了中国在未来几年内有可能达到国际先进水平的决心。 光刻机作为半导体制造的核心设备，其技术水平直接影响到了芯片的性能与成本。长期以来，高端光刻机市场被少数几家外国公司垄断。然而，随着中国在28纳米制程技术上的突破，这一切开始发生变化。这一技术不仅意味着中国能够在芯片生产上实现更多自主权，同时也为其在多个工业领域提供了坚实的基础。 2024年以来，伴随半导行业周期回暖，国内晶圆厂加大设备采购力度。据海关总署数据，2024年1-7月中国大陆进口半导体设备230.51亿美元，同比增长48%，本土晶圆厂的大力扩产亦将拉动国产半导体设备的需求增量。
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